概述

在半導體和微電子清洗工藝方面,業(yè)內正在逐步淘汰使用刺激性化學(xué)品的方案,改用更環(huán)保的臭氧水處理方案。這種方案節省了昂貴的廢物處理,可在室溫條件下進(jìn)行操作,成本更低。

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臭氧化模組

幾十年來(lái),戈爾的臭氧化模組為硅晶圓、邏輯芯片和存儲芯片的制造、平板顯示器(FPD)和光掩膜的表面處理和去除有機污物,提供了更安全、環(huán)保、經(jīng)濟的清洗工藝。

戈爾的臭氧化模組比目前市場(chǎng)上的方案更勝一籌,提供的臭氧溶解模組能生成更潔凈、無(wú)氣泡的臭氧水,而且保持穩定一致的高濃度和流量。戈爾的臭氧化模組久經(jīng)驗證,是改進(jìn)半導體和微電子及平板顯示器制程清洗工藝的可靠解決方案。